韩国专利研发战略支持半导体核心设备国产化
2023-06-21 14:36:34 阅读次

近日，韩国知识产权局（KIPO）在网站发布了专利研发（IP-R&D）战略支持项目[1]近一年的实施成果，通过实地考察韩国半导体前端工艺设备公司Eugene Tech，探索推动韩国半导体技术发展[2]的有效途径。

2022至2023年，IP-R&D战略支持项目通过713个项目为韩国中小型企业、中坚企业、大学和公共科研机构提供定制的专利战略，帮助其优化专利研发成果、保护核心专利，预算达到435亿韩元。

结果显示，获得战略支持的企业研发（R&D）项目在数量和质量方面均呈现较高水准：其优秀专利数量是未获得支持企业的1.4倍，且向美国、日本和欧洲知识产权局提交的专利申请数量是未获得支持企业的2.5倍。

同时，获得战略支持的研发项目应用价值更高：其专利转让率是未获得支持项目的1.2倍，每项技术转让合同的技术费用是未获得支持项目的3.7倍。

Eugene Tech通过参与IP-R&D战略支持项目，进行专利深度分析，获得的支持包括有关核心零部件结构的设计思路、改善设备性能的研发方向以及纠纷预防策略。在此基础上，该公司在薄膜加工设备领域获得了10项优秀专利，并成功实现了被国外垄断的“原子层沉积设备”[3]的国产化。

KIPO表示，将与相关部门合作，扩大IP-R&D战略支持，同时建立配套的基础设施，推动知识产权综合战略支持，为有意进军海外的企业提供专利、商标、外观设计和服务策略支持。此外，KIPO还将与半导体行业加强沟通，不断完善韩国企业必要的政策支持。

[1] 韩国专利研发战略支持项目（IP-R&D）指的是在研发的初期阶段，通过分析全球专利信息，帮助企业识别当前最佳研发（R&D）方向，克服海外专利壁垒，以及支持在专利技术空白领域对有前景的专利进行预审等。

[2] 韩国国家战略目标是2022至2023年提高工业技术研发的自主性和效率；2022至2026年建立知识产权保护体系；2024年缩小半导体、人工智能和电池等未来战略产业的差距。

[3] 能够形成大面积均匀薄膜的半导体微加工的核心设备。

王美元编译

来源：https://www.kipo.go.kr/ko/kpoBultnDetail.do?menuCd=SCD0200618&ntatcSeq=19766&aprchId=BUT0000029&sysCd=SCD02#1

原文标题：반도체 핵심장비 국산화 성공...특허청이 앞장선다

检索日期：2023年6月5日
文章来源：中科院知识产权信息（微信订阅号：casipr）

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